【摘 要】
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采用双极脉冲磁控溅射技术在钠钙玻璃衬底上制备了CIGS薄膜太阳电池的Mo薄膜背接触电极，通过SEM对薄膜厚度的测试，研究了不同沉积时间和衬底温度下Mo薄膜溅射速率的变化规律；通
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采用双极脉冲磁控溅射技术在钠钙玻璃衬底上制备了CIGS薄膜太阳电池的Mo薄膜背接触电极，通过SEM对薄膜厚度的测试，研究了不同沉积时间和衬底温度下Mo薄膜溅射速率的变化规律；通过XRD、SEM、紫外一可见分光光度计和四探针电阻测试仪对薄膜的晶体结构、表面形貌以及光电学性能进行表征，着重探讨了沉积时间和衬底温度对Mo薄膜生长、结构及性能的影响。研究结果表明，薄膜的沉积速率随沉积时间和衬底温度而变化，沉积30min后，沉积速率趋于稳定；衬底温度100℃时，薄膜沿（110）晶面定向生长被打乱，表现为沿（211）
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