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简述了ULSI中采用以铜作为互连线技术的工艺过程及其研究发展状况，并着重对铜互连线技术中扩散阻挡层的选取、铜淀积工艺的研究及化学机械抛光技术的平整度问题等一系列关键工艺作了较系统的分析与探讨。
ULSI中铜互连线技术的关键工艺
【摘 要】
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简述了ULSI中采用以铜作为互连线技术的工艺过程及其研究发展状况，并着重对铜互连线技术中扩散阻挡层的选取、铜淀积工艺的研究及化学机械抛光技术的平整度问题等一系列关键工
【机 构】
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中国科学院微电子中心,北京科技大学
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2001年2期
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