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为了研究Cd在不同水稻品种（Oryza sativa L．）细胞中的分布位点及其耐Cd的具体表征状况，以子粒Cd积累水平不同的两水稻品种（品种A：中浙优1号，子粒高Cd含量品种；品种C：J196，子粒低Cd含量品种）为材料，进行盆栽实验，设不加Cd处理（CK）和加Cd处理（25mg·kg^-1），采用透射电镜技术研究了外加Cd对两水稻品种细胞超微结构的影响．结果表明：Cd处理下两水稻品种的部分根细胞有Cd沉积现象，但不同品种的沉积部位表现不同，品种A主要在液泡边缘而品种C则在细胞壁和细胞间隙，表