实现工艺映射的新方法

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逻辑综合中,工艺映射是关键的一步.过去,基于树的映射由于其速度快、算法简洁而被广泛使用.但是,将电路结构划分为树,破坏了电路结构,缩小了映射的解空间.双态覆盖(Binate Covering)能充分利用门级网表的结构特性,使工艺映射后的电路具有更好的性能.
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