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为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A～0.8 A)制备了6组薄膜样品,采用四探针电阻测试仪测量样品的电阻率,用紫外可见分光光度计测量样品的透射率.同时,利用磁控溅射技术成功制取钛薄膜光栅,采用读数显微镜测量光栅常量.研究表明:钛薄膜电阻率随溅射电流的增大而减小,最小电阻率为3.0343Ω·cm;透射率随溅射电流的增大先减小后增大,最大透射率约为99％(对应溅射电流0.3 A),最小透射率约为0.03％(对应溅射电流0.7 A);测得钛薄膜光栅的光栅常量为(0.1701±0.0007)mm.