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钨和碳都是面对等离子体的主要候选材料,碳是目前国际聚变装置应用最广泛的材料,由于难熔金属的优越性能,钨又是未来聚变装置上倍受关注的候选材料,所以研究石墨基体上的钨涂层有其应用上的现实意义。目前在ASDEX-U装置上部分第一壁采用了石墨基钨涂层,TEXTOR装置的限制器和偏滤器靶板也采用钨涂层。