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简要论述了化学气相沉积(CVD)技术的工作原理,与其他表面硬化技术相比的特点,应用领域,以及近年来发展的金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)、等离子体化学气相沉积(PCVD)、激光化学气相沉积(LCVD)、超高真空化学气相沉积(UHVCVD)和热丝化学气相沉积(HWCVD)等新CVD技术,展望了该技术的发展趋势和应用前景。