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在玻璃衬底上用射频磁控溅射技术进行了非晶态锑化铟（a-InSb）薄膜的低温生长。采用X射线衍射（XRD）和原子力显微（AFM）技术对所生长的薄膜进行分析研究，所生长的非晶态锑化铟薄膜表面平整，没有晶粒出现，获得了射频磁控溅射生长非晶态锑化铟薄膜的“生长窗口”。采用傅立叶红外透射光谱分析技术对非晶态锑化铟薄膜进行了光学性能研究，在0．9～2．0μm范围内研究了薄膜的透射谱线，获得了薄膜的吸收系数，研究了其光学带隙和吸收边附近的3个吸收区域。