双辉离子TiAl基合金表面Cr-Si共渗及改善其耐磨性能的研究

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利用辉光离子渗金属技术,在TiAl基合金表面实现Cr-Si共渗。用SEM、EDS、XRD分别研究了由1号(880℃,2h,13mm)和2号(900℃,4h,18mm)工艺参数制备的合金层形貌、化学成分和相结构。结果表明,1号渗层厚度超过10μm,由外向内依次为Ti5Si3层、Al8Crs和α2-Ti3Al层、合金过渡层,且与基体呈冶金结合;与之相比,2号渗层厚度仅为5-7μm,表面为富Cr沉积层。摩擦磨损实验结果表明,1号和2号渗层室温耐磨性较基体分别提高7.3倍和4倍,高温(500℃)耐磨性提高26.5
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