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我们对“光电极值法”测厚多层介质膜镀膜机的性能作了改进，取得了明显的效果，可以说几个主要指标；如保持基片和膜层的清洁，膜层厚度的相对精度、低消耗电量，设备简单上以及调整光电路的节省时间等，都达到了同类型镀膜机的先进水平。另外，我们的实验还可能对要求保持高度清洁的其它镀膜器件提供一些解决问题的途径。此外，对改进本类型镀膜机的设计也提供了一些重要的参考。