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掺氮对类金刚石薄膜场发射的影响
掺氮对类金刚石薄膜场发射的影响
来源 :电子与信息学报 | 被引量 : 3次 | 上传用户:liujm1006
【摘 要】
:
利用脉冲激光沉积技术制备出了掺氮和未掺氮的类金刚石薄膜。采用X射线衍射仪、喇曼光谱仪、扫描电镜观察了掺氮和未掺氮类金刚石薄膜的微结构和表面形貌。场发射实验表明,掺氮降低了类金刚石薄膜的阈值电场,提高了发射电流密度。
【作 者】
:
马会中
张兰
姚宁
李运均
毕兆琪
王小平
张兵临
胡欢陵
【机 构】
:
郑州工业大学数理系,郑州大学物理工程学院,郑州航空管理学院,中国科学院安徽光学精密机械研究所
【出 处】
:
电子与信息学报
【发表日期】
:
2001年11期
【关键词】
:
类金刚石薄膜
场发射
掺氮
Pulsed laser deposition
Diamond-like carbon film
Electron field
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利用脉冲激光沉积技术制备出了掺氮和未掺氮的类金刚石薄膜。采用X射线衍射仪、喇曼光谱仪、扫描电镜观察了掺氮和未掺氮类金刚石薄膜的微结构和表面形貌。场发射实验表明,掺氮降低了类金刚石薄膜的阈值电场,提高了发射电流密度。
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