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镁合金化学机械抛光（CMP）的材料去除与其工艺参数具有高度非线性的特点，难以采用精确的数学模型来描述。以遗传算法（GA）优化神经网络（NN）建模为基础，利用正交试验设计获取镁合金CMP材料去除样本数据和测试数据，建立镁合金CMP材料去除模型。该模型以抛光压力、抛光盘转速、抛光液流量和抛光时间为输入参数，以材料去除速率为输出目标。结果表明：GA-NN协同模型能够构建镁合金CMP工艺参数与材料去除速率的基本关系；其拟合度波动范围为93．22％-97．97％，大大高于NN模型的拟合度波动范围71．56％-93．