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采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo／Pt非晶垂直磁化膜，系统研究了溅射工艺参数对TbFeCo薄膜磁性能的影响。振动样品磁强计测量结果表明：Tb含量在补偿成分点附近，采用较低的溅射氩气压与Pt底层，有利于提高TbFeCo薄膜的磁性能；当Tb含量为0．24，溅射功率为300W，溅射气压为0．53Pa，薄膜厚度为140nm时，TbFeCo／Pt薄膜矫顽力达到476kA。／m，饱和磁化强度为151kA／m，剩磁矩形比超过0．8，该薄膜有望用作高密度光磁混合记录介质。