论文部分内容阅读
以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的．通过直流磁控反应溅射技术在玻璃（或单晶硅）表面制备（Al，Ti）N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层，在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光透过率、表面粗糙度的影响以及测定最优条件下薄膜的结晶状态、表面形貌和元素含量．结果表明，当铝靶功率为100W、钛靶功率为80W、氮气流量为2．5ml／min、溅射时间为90min时可见光范围内透过率均在96％以上，表面粗糙度11．3nm，膜基结合力强，膜质优异适宜低辐射镀膜玻璃功能