ZStructural and Electrical Properties of Cu Films by dc Biased Plasma-Sputter-Deposited on MgO(001)

来源 :北京科技大学学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zsj520yxq

【摘要】

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Cu films of 30nm and 15nm thick were deposited on MgO(001) substrates at 185℃ by dc plasma-sputtering at 1.9kV and 8mA in pure Ar gas. A dc bias voltage Vs of

【作者】

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Hong Qiu

【出处】

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北京科技大学学报：英文版

【发表日期】

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2001年3期

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Cu films of 30nm and 15nm thick were deposited on MgO(001) substrates at 185℃ by dc plasma-sputtering at 1.9kV and 8mA in pure Ar gas. A dc bias voltage Vs of 0V or 80V was applied to the substrate during deposition. Structural and electrical properties h

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