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结合激光外差干涉术和反射式椭偏测量技术,设计了一种抗干扰能力强,快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法.着重分析并计算了非线性混频误差对测量精度的影响,其中塞曼激光和波片产生的光束椭偏化是关键因素.定义了评价因子以比较非线性混频误差的相对大小,这对外差椭偏纳米薄膜测量系统的设计有指导意义.
外差椭偏测量技术及其混频误差分析
【摘 要】
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结合激光外差干涉术和反射式椭偏测量技术,设计了一种抗干扰能力强,快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法.着重分析并计算了非线性混频误差对测量精度的影响,其中塞曼
【机 构】
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天津大学精密仪器学院激光及光电子研究所,天津大学精密仪器学院激光及光电子研究所,深圳大学工程技术学院
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2005年6期
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