退火温度对铝钕薄膜性能的影响

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:geona
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
为了研究退火温度对铝钕薄膜性能的影响规律,采用直流磁控溅射法在玻璃上制备了不同溅射功率、Al-0.5at%Nd和Al-2.5 at%Nd的合金薄膜,对薄膜样品分别进行230℃及300℃真空退火1 h。利用SEM、AFM对退火前后的AlNd薄膜的表面形貌、粗糙镀以及颗粒大小进行表征。结果表明:当退火温度达到300℃时,不同条件制备的薄膜表面均出现小丘,且溅射功率大小、掺杂钕(Nd)的浓度均能影响小丘密度。对于铝中掺杂0.5at和2.5%比例的钕在温度达到300℃时也不能抑制小丘的生长。
其他文献
在智能电表中,结算方式已经由原有的电量结算转换为金额结算,并且费率模式也较以往的电表更为复杂,这些需求对智能电表中的实时钟(RealTimeClock,RTC)提出了更高的要求。而众
由于对离子注入剂量的测量大多为破坏性测量,无法在注入工艺后及时检测注入的准确性,一直是离子注入技术面临的难题。以NISSIN exceed 2000AH中束流离子注入机为平台,着重研