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利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜,用XPS,XRD和SEM对膜层进行测量和分析,结果表明,沉积膜为δ-NbN,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关,衬底温度越高,生成的膜越致密,膜的表面越平整光滑.多次循环阳极极化扫描曲线测量表明,沉积膜样品的致钝电流密度(Ip)较碳钢降低(1～2)个数量级,抗腐蚀性能大幅度提高.