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石英表面经硅烷修饰后,可通过憎水性相互作用吸附溶菌酶,该吸附动力学过程以压电传感器实时监测.结果表明溶菌酶以单分子层吸附,吸附仅部分可逆,吸附和解吸的速率常数分别为ka=36.4mol-1.kg.s-1,kd=8.92×10-3s-1,且可逆吸附比及饱和单层的吸附密度随溶菌酶浓度增加而增加.
溶菌酶在硅烷化石英表面吸附的压电传感监测
【摘 要】
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石英表面经硅烷修饰后,可通过憎水性相互作用吸附溶菌酶,该吸附动力学过程以压电传感器实时监测.结果表明溶菌酶以单分子层吸附,吸附仅部分可逆,吸附和解吸的速率常数分别为k
【机 构】
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山东科技大学化工系,山东大学化学与化工学院
【出 处】
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传感器技术
【发表日期】
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2001年12期
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