【摘 要】
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ＮＥＣ研究先进的Ａｌ┐Ｇｅ┐Ｃｕ工艺据ＳｅｍｉｃｏｎｄＩｎｔｌ１９９６年第６期报道：ＮＥＣ公司的研究人员正在不断观察Ｇｅ加入Ａｌ－Ｃｕ互连后的作用，以得到一种有实际生产价值的低温回流溅射工艺。这种使用低温回流溅射和化学机械抛光金属平坦
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ＮＥＣ研究先进的Ａｌ┐Ｇｅ┐Ｃｕ工艺据ＳｅｍｉｃｏｎｄＩｎｔｌ１９９６年第６期报道：ＮＥＣ公司的研究人员正在不断观察Ｇｅ加入Ａｌ－Ｃｕ互连后的作用，以得到一种有实际生产价值的低温回流溅射工艺。这种使用低温回流溅射和化学机械抛光金属平坦化的Ａｌ－Ｇｅ...
NEC Research Advanced Al┐Ge┐Cu Process According to SemicondIntl1996 No. 6 Report: NEC’s researchers are constantly observing the role of Ge joined Al-Cu interconnect in order to obtain a real production value of low-temperature reflux Sputtering process. This low-temperature reflow sputtering and chemical mechanical polishing of metal-planarized Al-Ge
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