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采用磁控溅射法制备了SiC/ZnO/Si镶嵌结构复合薄膜,对样品采用了不同的温度进行退火处理,测定了样品的光致发光图谱。结果显示,复合薄膜的光致发光强度较单体薄膜有一定的增强,主要原因是发光复合中心的多元化和分布浓度的增加;随着退火温度的不同,各峰位的变化趋势有所不同。
SiC/ZnO/Si镶嵌结构的光致发光研究
【摘 要】
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采用磁控溅射法制备了SiC/ZnO/Si镶嵌结构复合薄膜,对样品采用了不同的温度进行退火处理,测定了样品的光致发光图谱。结果显示,复合薄膜的光致发光强度较单体薄膜有一定的增
【机 构】
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西北师范大学知行学院,西北师范大学物理与电子工程学院
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2010年12期
【基金项目】
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国家杰出青年科学基金资助项目（50725416）
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