【摘 要】
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通过电化学测试研究了pH、配位剂(柠檬酸钾)和缓蚀剂[包括1,2,4−三氮唑(TAZ)和3−氨基−5−巯基−1,2,4−三氮唑(AMTA)]对Co/Ti电偶腐蚀的影响。结果表明,溶液pH升高会增大C
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(61504037),国家科技重大专项资助项目(20016ZX02301003-004-007),天津自然科学基金(16JCYBJC16100,18JCTPJC57000)
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通过电化学测试研究了pH、配位剂(柠檬酸钾)和缓蚀剂[包括1,2,4−三氮唑(TAZ)和3−氨基−5−巯基−1,2,4−三氮唑(AMTA)]对Co/Ti电偶腐蚀的影响。结果表明,溶液pH升高会增大Co与Ti之间的腐蚀电位差。当pH=8时,加入0.5%(质量分数)柠檬酸钾会加剧Co和Ti之间的电偶腐蚀,而再加入缓蚀剂TAZ或AMTA能够抑制电偶腐蚀。由化学机械抛光(CMP)结果可知,随着TAZ或AMTA质量分数的提高,Co和Ti的去除速率都降低。抛光液中加入质量分数为0.1%的TAZ或AMTA时,Co与Ti
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