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给传统膜单元引入一个垂直单元平面的旋转自由度，可以增加位移场阶次，提高计算精度和单元性能．文中为膜结构和高层结构中的剪力墙提供了两种性能良好的四节点膜单元．理论分析和数值模拟表明，这两种单元所采用的线位移和转角位移相互独立的位移场，能有效解决一维单元和二维单元的过渡连接问题，易于编程实现．数值计算结果表明，该单元位移场更符合实际位移场，并节省了计算时间．