论文部分内容阅读
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition PVD）是在真空条件下,利用各种物理方法,将涂料气化成原子、分子或电离成离子,直接沉积到基片（工件）表面形成固态薄膜的方法。主要包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。蒸发镀膜—工件不带电,在真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与加热时的温度相对应。