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以N2、O2作载气,采用催化增强化学气相沉积（CECVD）法,于250～300℃和减压/常压下制得沉积于聚酰亚胺（PI）上的Pt,Pd/Pt和Pt/Pd金属双层薄膜。当使用Pd（hfac）2和Pt（COD）Me2为前驱体,在同一反应器内共沉积时只有Pt被沉积（钯配合物起催化剂作用）,金属铂、钯顺序沉积可形成双层膜。经XPS和SEM分析了所得沉积膜的表面结构与相组成。结果表明：所有沉积层与PI衬底的粘附性能良好;沉积速率为70～80nm/h,钯、铂粒径分别为100nm和100～150nm。