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期刊论文
用于半导体工艺中的光CVD技术
用于半导体工艺中的光CVD技术
来源 :微电子学与计算机 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dfl_peng
【摘 要】
:
本文介绍了几种光CVD试验装置,总结了光CVD原理以及光CVD技术在半导体工艺中的应用。
【作 者】
:
孙青
孙建诚
景俊海
【机 构】
:
西北电讯工程学院,
【出 处】
:
微电子学与计算机
【发表日期】
:
1988年02期
【关键词】
:
半导体工艺
光分解
混合气体
金属化合物
CVD
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本文介绍了几种光CVD试验装置,总结了光CVD原理以及光CVD技术在半导体工艺中的应用。
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