一种勾形磁场新磁屏蔽体优化设计与分析

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wubaishan
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本文在勾形磁场现有磁屏蔽体的基础上,提出一种新的磁屏蔽体结构,并以8寸单晶炉新型磁屏蔽体结构的勾形磁场为研究对象,对其进行了模拟分析及优化设计。结果表明:安匝数一定的情况下(33600),采用新型磁屏蔽体的勾形磁场较现有勾形磁场的磁场强度曰,提高了约27.03%;当坩埚侧处产生横向磁场强度均为491Gs时,其功耗下降了约35.97%;该研究为进一步降低功耗提供了一种设计思路及设计方法。
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