非晶碳/Mo2C混合膜的场发射特性

来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dodosparkle

【摘要】

：

以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空室中测量了样品场发射特性,开启场强为0.55 V

【作者】

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王朝勇姚宁张兵临方莉俐袁泽明

【机构】

：

郑州大学材料物理教育部重点实验室

【出处】

：

真空电子技术

【发表日期】

：

2006年2期

【关键词】

：

场发射微波等离子体化学气相沉积非晶碳 Mo2C Field emission MPCVD Amorphous carbon Mo2C

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以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2.在高真空室中测量了样品场发射特性,开启场强为0.55 V/μm,在1.8 V/μm电场下样品的发射电流密度为6.8 mA/cm^2,发射点点密度大于103/cm^2.用SEM观察了表面形貌,Raman和XRD谱分析了薄膜的微观结构和成分.实验结果表明该薄膜是一种好的场致电子发射体.

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