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将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光改抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影性.通过控制合适的树脂酸值及成像显影条件,可得到良好断面的图像,并且抗蚀剂线条图分辨率可达～1μm.当光源分别为平行光和点光源时图像清晰程度不一样:平行光比点光源好.
高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究
【摘 要】
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将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光改抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影性.通过控制合适的树脂酸值及成像显影条件,
【机 构】
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四川大学高分子材料科学与工程系四川大学高分子材料工程国家重点实验室,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
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影像技术
【发表日期】
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2001年3期
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