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一步法制备N掺杂SiC纳米线及场发射性能研究

来源 :青岛科技大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhongxuhong

【摘 要】

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采用简单的化学气相沉积法,首次以尿素（CO（NH2）2）为N掺杂剂,与Si/SiO2粉体混合,一步法实现了高质量的N掺杂SiC纳米线的制备,并系统研究了不同原料质量比m（Si/SiO2）∶m（CO（NH2）2）、不同

【作 者】

：

张栋梁 宋冠英 李镇江 孙莎莎 

【机 构】

：

青岛科技大学中德科技学院,机电工程学院,山东省高分子材料先进制造技术重点实验室

【出 处】

：

青岛科技大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2017年1期

【关键词】

：

SiC纳米线 N掺杂 一步化学气相沉积法 场发射性能 

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采用简单的化学气相沉积法,首次以尿素（CO（NH2）2）为N掺杂剂,与Si/SiO2粉体混合,一步法实现了高质量的N掺杂SiC纳米线的制备,并系统研究了不同原料质量比m（Si/SiO2）∶m（CO（NH2）2）、不同合成温度对N掺杂SiC纳米线场发射性能的影响规律。研究得出：原料质量比m（Si/SiO2）∶m（CO（NH2）2）为1∶3,合成温度为1 250℃时,产物具有最优的场发射性能,其开启电场和阈值电场分别为1.2V·μm-1和3.3V·μm-1。利用扫描电子显微镜（SEM）、透

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