【摘 要】
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采用多弧离子镀技术,在不同偏压和沉积温度工艺条件下,在TC4钦合金上制备铝镀层,然后进行 微弧氧化.采用光学显微镜、摩擦磨损试验机、点滴试验研究了不同多弧离子镀工艺对镀
【机 构】
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南昌航空大学轻合金加工科学与技术国防重点学科实验室
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采用多弧离子镀技术,在不同偏压和沉积温度工艺条件下,在TC4钦合金上制备铝镀层,然后进行 微弧氧化.采用光学显微镜、摩擦磨损试验机、点滴试验研究了不同多弧离子镀工艺对镀铝层微弧氧化磨 微观结构、耐磨性和耐蚀性能的影响.结果表明：随着多弧离子镀基体偏压由-200V增加至-300V,温度由25℃增加至250℃,微弧氧化膜表面变得更致密,膜层表面微孔孔径减小,偏压和温度分别为-300V、250℃的条件下,微弧氧化膜的摩擦系数最低,磨损量最小,在酸性重铬酸钾溶液的点滴实验中,耐蚀性最好.
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