用 M500型全视场投影装置制作 NMOS 器件工艺时的全自动对准

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为了检验 Pcrkin—Flmer 公司的具有自动对准和自动放大校正功能的500型全视场掩模投影光刻机的性能,我们用各种尺寸的片子对其进行了不同的测验。其模拟测试也是尽可能采用接近 NMOS 片子工艺的方法。其结果证明在5英寸的片子上该光刻机完全可以获得优于±0.25微米(2σ)的全视场对准精度。 To test the performance of Pcrkin-Flmer’s Model 500 Full-Field Mask Projection Lithography with automatic alignment and automatic magnification correction, we tested it differently with films of various sizes. Its analog test is also used as close as possible to the NMOS chip process. The results demonstrate that the lithography machine can achieve full field alignment better than ± 0.25 microns (2σ) on a 5-inch film.
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