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采用高级氧化技术-紫外/双氧水（UV/H_2O_2）和紫外/过硫酸盐（UV/PS）工艺降解磺胺吡啶（SPY）。研究表明,紫外与氧化剂（H_2O_2、PS）联用可显著提高去除率,其反应符合拟一级动力学模型。目标污染物磺胺吡啶的去除率在一定浓度内随着氧化剂H_2O_2和PS浓度升高而升高;磺胺吡啶初始浓度越大,反应速率越小;UV/H_2O_2工艺降解磺胺吡啶最大去除率发生在p H=3,而UV/PS工艺降解SPY在p H=11时去除率最大;Na Cl会抑制UV/H_2O_2和UV/PS工艺对目标污染物的降解,而