反应蒸发法制作不掺杂In_2O_3透明导电薄膜

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:C_Adrian
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用反应蒸发技术制作不掺杂ln_2O_3薄膜,薄膜厚度为1500~2000A、方块电阻为60~200Ω/□、透光率为80~94%(波长λ=600nm)。本文讨论了蒸发过程中氧气充入量和蒸发时间对薄膜的光电特性的影响,说明低蒸发速率和限制氧气流量是获得优质薄膜的关键。该技术制备的薄膜样品已在摄象管制造中进行了试用。 The undoped ln_2O_3 thin film is fabricated by reactive evaporation technique. The film thickness is 1500 ~ 2000A, the sheet resistance is 60 ~ 200Ω / □ and the transmittance is 80 ~ 94% (wavelength λ = 600nm). This paper discusses the influence of oxygen charge and evaporation time on the photoelectric properties of the films during the evaporation process. It shows that the low evaporation rate and the limited oxygen flow rate are the keys to obtain high quality films. Film samples prepared by this technique have been tested in the manufacture of video cameras.
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