非平衡磁控溅射法Ti／TiO2薄膜的制备及分析

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：selene1988

【摘要】

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在光学玻璃衬底上利用新型非平衡磁控溅射技术沉积了Ti／TiO2薄膜。原子力显微镜分析表明，薄膜表面光滑、致密、均匀，表面粗糙度（Ra）小于10nm，组成薄膜的颗粒尺寸小于100nm。膜厚测

【作者】

：

杨武保杜建赵震翁永基张守忠董琪

【机构】

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中国石油大学,北京丹普表面技术公司

【出处】

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真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2006年2期

【关键词】

：

非平衡磁控溅射 Ti/TiO2薄膜非晶态光学性能 Unbalanced magnetron sputtering Ti/TiO2 films Un-cr

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在光学玻璃衬底上利用新型非平衡磁控溅射技术沉积了Ti／TiO2薄膜。原子力显微镜分析表明，薄膜表面光滑、致密、均匀，表面粗糙度（Ra）小于10nm，组成薄膜的颗粒尺寸小于100nm。膜厚测量分析表明，TiO2薄膜的沉积速率达110nm／min。在拉曼光谱中，没有出现晶态TiO2薄膜的散射峰，表明所得TiO2薄膜为非晶结构。利用紫外-可见光全反射谱分析了薄膜的光学性能，结果发现，单纯TiO2薄膜存在微弱吸收，在波长约550nm时出现最大反射率，其后波长越大，吸收率越高；在Ti/TiO2薄膜体系中，随着沉积的

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