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新思科技公司与中芯国际集成电路制造有限公司宣布：推出其40纳米RTL-to-GDSII参考设计流程的5.0版本。此款经过生产验证的流程借助Synopsys的完整工具套件,将多样化的自动化低功耗和高性能功能整合在其中,
中芯国际和新思科技扩展40nm低功耗Reference Flow5.0
【摘 要】
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新思科技公司与中芯国际集成电路制造有限公司宣布：推出其40纳米RTL-to-GDSII参考设计流程的5.0版本。此款经过生产验证的流程借助Synopsys的完整工具套件,将多样化的自动化低
【出 处】
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中国电子商情(基础电子)
【发表日期】
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2012年7期
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