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本文主要介绍了微结构气敏传感器制造工艺中的关键技术，例如双面光刻、反应等离子刻蚀、硅的各向异性腐蚀、采用溶胶—凝胶镀膜技术制备ＷＯ３敏感薄膜。文中还给出ＷＯ３薄膜的ＸＲＤ和ＳＥＭ表面分析图。对结构和表面形貌进行了分析，并给出传感器的气敏特性曲线。最后对存在的问题进行了简单的讨论。
微结构气敏传感器制造工艺的研究
【摘 要】
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本文主要介绍了微结构气敏传感器制造工艺中的关键技术，例如双面光刻、反应等离子刻蚀、硅的各向异性腐蚀、采用溶胶—凝胶镀膜技术制备ＷＯ３敏感薄膜。文中还给出ＷＯ３薄膜的ＸＲＤ和ＳＥＭ表面分析
【机 构】
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中科院电子所传感技术国家重点实验室
【出 处】
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仪表技术与传感器
【发表日期】
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1998年03期
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