【摘 要】
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传统电弧离子镀存在着大颗粒污染、沉积温度相对较高和易引发微弧击穿效应等诸多不足,制约其在精细薄膜、低温沉积和功能薄膜等方面的应用。本文简要介绍了电弧离子镀中大颗
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传统电弧离子镀存在着大颗粒污染、沉积温度相对较高和易引发微弧击穿效应等诸多不足,制约其在精细薄膜、低温沉积和功能薄膜等方面的应用。本文简要介绍了电弧离子镀中大颗粒的形成机理,旨在探讨用磁场控制、脉冲电弧、磁过滤及脉冲偏压等方法来减少大微粒污染及其作用机理。
Traditional arc ion plating has many disadvantages such as large particle pollution, relatively high deposition temperature and easy to cause micro-arc breakdown effect, which restricts its application in fine film, low temperature deposition and functional film. In this paper, the formation mechanism of large particles in arc ion plating is briefly introduced. The purpose of this paper is to discuss the ways to reduce the pollution of large particles and its mechanism by using magnetic field control, pulse arc, magnetic filtration and pulse bias.
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