【摘 要】
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研究了薄膜沉积方法，基于空心阴极金属溅射，在基材附近提供反应气体。工作气体和携带溅射原子通过一个狭长通道从阴极出来，这样，反应气体被阻止到达靶面。用Cu靶和脉冲电源激励，研
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研究了薄膜沉积方法，基于空心阴极金属溅射，在基材附近提供反应气体。工作气体和携带溅射原子通过一个狭长通道从阴极出来，这样，反应气体被阻止到达靶面。用Cu靶和脉冲电源激励，研究了阴极的基本运作。研究包括沉积率对电源、压强、气体流量和膜厚分布的依存关系，以及膜电阻率作为基材上的状态函数。用模型进行计算气体的速度分布和在腔内的压强，Al2O3膜是在氧的活性环境下溅射一个Al靶获得的，必须指出只要极少量氧气通过阴极就能氧化（中毒）靶，而外面大量氧气完全不会影响靶，在后者模式下实现了非常稳定的放电且易形成的Al2O
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