【摘 要】
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磁控溅射离子镀是在长期研究一般离子镀和真空溅射的基础上诞生的一项新型物理气相沉积(PVD)表面技术。它可以通过在材料表面沉积一层与基材结合牢固的涂层而使材料获得某些
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磁控溅射离子镀是在长期研究一般离子镀和真空溅射的基础上诞生的一项新型物理气相沉积(PVD)表面技术。它可以通过在材料表面沉积一层与基材结合牢固的涂层而使材料获得某些特殊性能。如耐热性、耐蚀性、耐磨性等;同时,它又是一种使材料表面合金化的新途径。它与一般离子镀相比,其突出特点是,镀复材料和被镀材料几乎不受限制;冷蒸发源、尺寸大、寿命长,易实现成批及大量生产,沉积速率高,基板温度低,不改变基板原有的某些性能。
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