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通过Ｘ射线衍射和ＸＰＳ对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析，测得表面黑膜主要由Ｃｕ２Ｏ、ＣｕＯ、ＣｕＣＯ２、Ｃｕ（ＯＨ）２、Ｃｕ的氯化物和硫化物以及钠盐、ＳｉＯ２等组成。由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的原因进行了探讨。
绝缘层下电磁线表面发黑原因分析
【摘 要】
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通过Ｘ射线衍射和ＸＰＳ对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析，测得表面黑膜主要由Ｃｕ２Ｏ、ＣｕＯ、ＣｕＣＯ２、Ｃｕ（ＯＨ）２、Ｃｕ的氯化物和硫化物以及钠盐、ＳｉＯ２等组成。由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的
【机 构】
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湖南大学化学化工学院
【出 处】
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腐蚀与防护
【发表日期】
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2000年8期
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