【摘 要】
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<正> 一、前言随着工农业生产和国防工业的发展,要求电子产品高质量,低成本,及随着半导体集成电路不断向高集成度方向发展,对其生产中所用的光刻掩膜版提出了更高的要求,而铬
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<正> 一、前言随着工农业生产和国防工业的发展,要求电子产品高质量,低成本,及随着半导体集成电路不断向高集成度方向发展,对其生产中所用的光刻掩膜版提出了更高的要求,而铬版是远不能满足的,尤其针孔问题,是铬版难于克服的缺点。基于这些情况,我们进行了Fe2O3彩色掩膜版的研制试验。经过一个多月,终于试制成功,被北京元件二厂、无锡半导体等厂采用。后来又在太原半导体等厂推广应用并投入生产。为我省电子工业填补了一项空白。
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