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目的 研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制。方法 采用循环伏安法研究牙片电极在K2SO4溶液中的氧化还原反应；以失重法并结合SPSS统计软件统计分析，评价牙片在KCl和K2SO4介质中恒电位腐蚀情况，并现场监测电解液氢离子浓度的变化情况。结果 在0.0-2.5V电位范围内，牙片电极与石墨电极具有波形类似的循环伏安曲线；在KCl和K2SO4介质中牙片的腐蚀速度无显著差异；2.0V恒电位腐蚀牙片8h后，阳极池本体溶液pH值由7.0平均下降到3.87，阴极池则由7.0平均升高到10.65。结论 在外电场作用