紫铜化学抛光工艺的研究

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研究了紫铜HNO3-H2O2微酸性化学抛光工艺。在抛光溶液中添加光亮剂,缓蚀剂和抑雾剂,改进了工艺成份。并通过正交试验获得了最佳工艺条件。该改进后的工艺可使紫铜表面达到机械镜面抛光的光亮度,同时大大地改善了操作环境。 The slightly acidic chemical process of copper HNO3-H2O2 was studied. Brightener, corrosion inhibitor and anti-fogging agent added in the polishing solution to improve the process composition. The optimum conditions were obtained through orthogonal experiment. The improved process allows the copper surface to achieve mechanical mirror polishing brightness, while greatly improving the operating environment.
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