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为了探究轧制油对压延电子铜箔的腐蚀情况，对铜箔进行了静态浸泡腐蚀，探讨腐蚀时间、温度对腐蚀过程的影响；采用间歇性腐蚀试验研究了轧制油腐蚀性和金属腐蚀率随腐蚀时间的变化；以苯并三氮唑（BTA）为缓蚀剂进行了初步的缓蚀试验，通过扫描电镜（SEM）观察缓蚀效果。结果表明：静态腐蚀时，铜箔腐蚀速率随腐蚀时间呈波动性变化，腐蚀3h时腐蚀速率最高，达到0．780mm／a，腐蚀9h时腐蚀速率最低，为0．366mm／a；铜箔表面腐蚀分为主要腐蚀生成Cu2O和Cu2O被进一步氧化为CuO2个阶段；随着与铜箔接触时间的延长轧