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针对河西内陆灌区膜上灌玉米，进行了不同覆膜宽度条件下苗期不同时刻的各土层土壤温度测定，结果表明：在0～25cm土层内，1．25m宽膜膜上灌处理的地温比0.75m窄膜膜上灌处理要高，但二者的日变化趋势一致，均呈现以中午14：00时刻土壤温度为峰值的单峰曲线。在5、10、15、20和25cm深度处的土壤温度，沿1．25m宽膜、0．75m窄膜膜上灌处理至常规灌溉处理的顺序依次递减。同时膜上灌处理的各土层之间地温呈现平缓的变化趋势，并且始终保持较高地温，利于苗期玉米根系生长，为增产增收奠定基础。