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中子辐照硅的正电子湮没寿命谱研究
中子辐照硅的正电子湮没寿命谱研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Ling_Hun
【摘 要】
:
研究了中子辐照硅中正电子湮没寿命谱的等时退火特性,得到与文献[1]不相同的结果.实验资料对比表明,本工作的结果与EPR、IR、DLTS的实验能更好地符合.对[1]中的双空位运动形
【作 者】
:
罗宗德
游志朴
【机 构】
:
四川大学物理系,四川大学物理系成都610064,成都610064
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1992年3期
【关键词】
:
硅
中子辐照
正电子湮没
寿命谱
CrystalsDefectsSemiconductor MaterialsDefects
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研究了中子辐照硅中正电子湮没寿命谱的等时退火特性,得到与文献[1]不相同的结果.实验资料对比表明,本工作的结果与EPR、IR、DLTS的实验能更好地符合.对[1]中的双空位运动形成四空位的模型提出质疑.指出中子能谱不同很可能是导致缺陷俘获态寿命退火特性相异的重要原因.更多还原
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