【摘 要】
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在VLSI制造过程中,静电吸盘（ESC）以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中。文章以LAM Research公司TCP9400等离子刻蚀机在多晶硅刻蚀的生产实践为
【机 构】
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上海交通大学微电子学院,中芯国际（上海）集成电路制造有限公司
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在VLSI制造过程中,静电吸盘（ESC）以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中。文章以LAM Research公司TCP9400等离子刻蚀机在多晶硅刻蚀的生产实践为例,分析了这种双极性静电吸盘（bipolar-ESC）的结构特点和其工作原理,并逐一分析了在其使用过程中各参数补偿电压、夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响,并提出了对生产过程的监控参数,以达到及时发现问题、解决问题的目的。
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