磁性多层膜Ta／NiO／NiFe／Ta角分辨XPS

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【摘要】

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磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO/NiFe界面发生了化学反应: NiO+Fe = Ni+FeO

【作者】

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于广华朱逢吾马纪东王安荣

【机构】

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北京科技大学材料物理系

【出处】

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北京科技大学学报

【发表日期】

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2002年2期

【关键词】

：

磁性多层膜角分辨XPS 交换耦合界面反应 angle-resolved XPS NiO/NiFe exchange coupling interfac

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磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO/NiFe界面发生了化学反应: NiO+Fe = Ni+FeO和3NiO+2Fe =3Ni+Fe2O3,此反应深度约为1～1.5 nm.反应产物将影响NiO对NiFe的交换耦合.

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