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对国产设备试制及生产Φ〉７６．２ｍｍ无位错ＦＺ硅单晶的两种最为稳定的工艺热场作了较全面的分析总结。
国产炉拉制Φ〉76.2mm无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析
【摘 要】
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对国产设备试制及生产Φ〉７６．２ｍｍ无位错ＦＺ硅单晶的两种最为稳定的工艺热场作了较全面的分析总结。
【机 构】
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峨眉半导体材料厂
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1999年2期
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